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02 光线跟踪阴影
上面介绍了[阴影贴图]的相关参数及特性，下面来介绍[光线跟踪阴影]。
我们接着上一部分的例子来开始[光线跟踪阴影]的学习。
step01 打开[常规参数] 卷展栏，单击[阴影贴图] 打开下拉选项，选择[光线跟踪阴影]方式。
step02 此时会在下方出现相应的[光线 跟踪阴影参数]卷展栏，使用默认值进行渲染，效果如图所示。
观察上图发现阴影的边缘锐利，且较为光滑，没有锯齿效果。最重要的是，椅子透明材质部立的阴影出现了透明效果，这与之前学习的[阴影贴图]完全不同。
接着来看看[光线跟踪阴影参数]卷展栏中的参数设置。
[光线偏移]与[阴影贴图]中[偏移]的概念完全相同，决定阴影与物体之间的距离的远元。默认值为0.2，一般不需要调节，保持默认即可。
[双面阴影]与[阴影贴图]中[双面阴影]的概念完全相同，读者朋友可以参考学习。
[最大四元树深度]是指计算机在计算场景时将场景中的相关数据列成四元树。
TIPS：四元树是一种用于计算光线跟踪阴影的数据结构。四元树从灯光的角度来表现场景。四元树的根节点列出了在视图中可见的所有对象，如果可视对象过多，节点会生成另外4个节点，均代表视图的1/4，并分别列出所在部分的对象。该过程以自适应方式持续进行，直到每个节点都只有少量对象，或者四元树达到其深度限制。增加四元树的最大深度可以加速光线追踪。
四元树的范围是2到四元树最大深度次幂的平方。深度为7时，四元树最多拥有128 X 128个叶节点;深度为10时，四元树最多拥有1028 X 1028个叶节点，以此类推。
对于较小的场景，可以将[最大四元树深度]值提高，这样会大大加快渲染时间，并且不会影响场景的渲染效果。
将[最大四元树深度]值设置为10，对场景进行渲染，效果如图所示。
[最大四元树深度]值设置为10后，渲染时间由原来的4秒变成了2秒，缩短了一半的时间。
对于较大的场景，将[最大四元树深度]值设为10,则不一定会加快渲染速度。[最大四元病深度]值还需要根据场景的实际情况来调节，一般数值都设置在7~ 10之间。[最大四元树深度]
值小于7后，数值越小渲染就越慢。
[光线跟踪阴影]的优点是可以计算透明材质的阴影效果，其缺点是不能产生阴影的模糊效果，并且计算速度较慢。
03 高级光线跟踪
[高级光线跟踪]与[光线跟踪阴影]比较相似，其最大不同就是在[光线跟踪阴影]的基础上增加了模糊效果。
打开[常规参数]卷展栏，单击[阴影贴图]下拉选项，选择[高级光线跟踪]方式。
此时会在下方出现相应的[高级光线跟踪参数]和[优化]卷展栏，[高 级光线跟踪参数]卷展栏如图所示。
[高级光线跟踪]较[光线跟踪阴影]参数更加复杂，但其中的[双面阴影] 和[阴影偏移]两个参数与[光线跟踪阴影]是完全相同的。
在[高级光线跟踪参数]卷展栏中，[基本选项] 下有一个下拉选项，单击[双过程抗锯齿]，打开下拉选项，下拉选项中还有[简单]和[单过程抗锯齿]两个选项。分别切换为这三个选项，观察下方的参数情况，如图所示。
选择[简单]选项时，[抗锯齿选项] 仅有[阴影偏移]值可调节;选择[单过程抗锯齿]选项时，[抗锯齿选项] 仅有部分参数可调节;选择[双过程抗锯齿]选项时，[抗锯齿选项]中所有参数均可调节。
选择[简单]选项，对场景进行渲染，效果如图所示。渲染速度很快，只使用了2秒的时间，但是阴影质量很差，出现了明显的锯齿。
TIPS：一般在对场景做测试渲染时使用[简单]选项;在最终出效果图的时候，选择[双过程抗锯齿]选项。
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